Parametric study of the reactive ion etching of silicon

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριος συγγραφέας:	Sotto, Romelyn H.
Μορφή:	Thesis
Γλώσσα:	Αγγλικά
Έκδοση:	2008.
Θέματα:	Semiconductors > Etching. Plasma etching. Silicon > Etching. Silicon crystals > Etching.