Parametric and kinetic study of silicon nitride film deposition on silicon wafer by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) method

Parametric and kinetic study of silicon nitride film deposition on silicon wafer by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) method

Hiển thị tất cả phiên bản (4) khác
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Velasco, Angelito A.
Định dạng: Luận văn
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: 2002.
Những chủ đề:
Silicon nitride.
Chemical vapor deposition.
Arrhenius equation.