Parametric and kinetic study of silicon nitride film deposition on silicon wafer by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) method

Parametric and kinetic study of silicon nitride film deposition on silicon wafer by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) method

عرض كل الإصدارات (4)
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Velasco, Angelito A.
التنسيق: أطروحة
اللغة:English
منشور في: 2002.
الموضوعات:
Silicon nitride.
Chemical vapor deposition.
Arrhenius equation.