High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Garcia, Alipio Terrano
Định dạng: Luận văn
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: 1999.
Những chủ đề:
Sputtering (Physics).
Aluminum films.
Copper > Oxidation.
Aluminum > Anodic oxidation.