High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Garcia, Alipio Terrano
Aineistotyyppi: Opinnäyte
Kieli:English
Julkaistu: 1999.
Aiheet:
Sputtering (Physics).
Aluminum films.
Copper > Oxidation.
Aluminum > Anodic oxidation.