High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

Dettagli Bibliografici
Autore principale:	Garcia, Alipio Terrano
Natura:	Tesi
Lingua:	English
Pubblicazione:	1999.
Soggetti:	Sputtering (Physics). Aluminum films. Copper > Oxidation. Aluminum > Anodic oxidation.