High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי: Garcia, Alipio Terrano
פורמט: Thesis
שפה:English
יצא לאור: 1999.
נושאים:
Sputtering (Physics).
Aluminum films.
Copper > Oxidation.
Aluminum > Anodic oxidation.