High vacuum thermal oxidation of RF magnetron sputtered aluminum film on copper substrate for TBC-AL203 growth

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
প্রধান লেখক:	Garcia, Alipio Terrano
বিন্যাস:	গবেষণাপত্র
ভাষা:	English
প্রকাশিত:	1999.
বিষয়গুলি:	Sputtering (Physics). Aluminum films. Copper > Oxidation. Aluminum > Anodic oxidation.