Etch-stop mechanisms in plasma-assisted atomic layer etching of silicon nitride: a molecular dynamics study
| 1. autor: | |
|---|---|
| Kolejni autorzy: | , |
| Format: | Praca dyplomowa |
| Język: | angielski |
| Wydane: |
Quezon City
College of Engineering, University of the Philippines Diliman
2021.
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | Abstract |