Etch-stop mechanisms in plasma-assisted atomic layer etching of silicon nitride: a molecular dynamics study

Etch-stop mechanisms in plasma-assisted atomic layer etching of silicon nitride: a molecular dynamics study

Bibliografiska uppgifter
Huvudupphovsman: Tercero, Jomar U. (Författare, medförfattare)
Övriga upphovsmän: Vasquez, Magdaleno R. Jr (adviser.), Hamaguchi, Satoshi (co-adviser.)
Materialtyp: Lärdomsprov
Språk:English
Publicerad: Quezon City College of Engineering, University of the Philippines Diliman 2021.
Ämnen:
Molecular dynamics simulations.
Silicon nitride.
Länkar:Abstract