Formation of nanopillars on 4H-SiC via self-masking CF4 plasma etching in a gas disharge ion source
| 1. Verfasser: | |
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| Weitere Verfasser: | |
| Format: | Abschlussarbeit |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Quezon City
National Institute of Physics, College of Science, University of the Philippines Diliman
2013.
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| Schlagworte: |