Velasco, A. A. Parametric and kinetic study of silicon nitride film deposition on silicon wafer by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) Method. Philippine Engineering Journal.
Cytowanie według stylu Chicago (wyd. 17)Velasco, Angelito A. "Parametric and Kinetic Study of Silicon Nitride Film Deposition on Silicon Wafer by Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Method." Philippine Engineering Journal .
Cytowanie według stylu MLA (wyd. 9)Velasco, Angelito A. "Parametric and Kinetic Study of Silicon Nitride Film Deposition on Silicon Wafer by Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Method." Philippine Engineering Journal, .
Uwaga: Te cytaty mogą odróżniać się od wytycznej twojego fakultetu..