A novel atmospheric pressure AC plasma jet system for deposition of titanium and titanium dioxide on silicon wafers

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Delos Santos, Mercy Ann C. (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: 2015.
Schlagworte:
Online-Zugang:https://drive.google.com/file/d/0B4z4dtp29sZ7VVdRQ1FGSHZ1VG8/view?usp=sharing