A novel atmospheric pressure AC plasma jet system for deposition of titanium and titanium dioxide on silicon wafers
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
2015.
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| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | https://drive.google.com/file/d/0B4z4dtp29sZ7VVdRQ1FGSHZ1VG8/view?usp=sharing |