Etch-stop mechanisms in plasma-assisted atomic layer etching of silicon nitride: a molecular dynamics study

Etch-stop mechanisms in plasma-assisted atomic layer etching of silicon nitride: a molecular dynamics study

Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Tercero, Jomar U. (Autor)
Další autoři: Vasquez, Magdaleno R. Jr (adviser.), Hamaguchi, Satoshi (co-adviser.)
Médium: Diplomová práce
Jazyk:English
Vydáno: Quezon City College of Engineering, University of the Philippines Diliman 2021.
Témata:
Molecular dynamics simulations.
Silicon nitride.
On-line přístup:Abstract