Zobrazuji výsledky 1 - 1 z 1 pro vyhledávání '"2.3 to 2.4 micron."', doba hledání: 0,02 s. Upřesnit hledání
  1. 1

    A novel technique for fabricating high reliable trench DMOSFETs using self-align technique and hydrogen annealing. Autor Jongdae Kim

    Článek

    A novel technique for fabricating high reliable trench DMOSFETs using self-align technique and hydrogen annealing.

Vyhledávací nástroje: