Résultats de la recherche

Affiner les résultats
  1. 1

    Parametric study of the reactive ion etching of silicon par Sotto, Romelyn H.

    Publié 2008
    Thèse
  2. 2
  3. 3

    Reactive ion etching of GaAs structures using BCl3 par Mailig, Rengie Mark D.

    Publié 2012
    Thèse
  4. 4
  5. 5

    Principles of plasma discharges and materials processing par Lieberman, M. A. ( Michael A.)

    Publié 1994
    Livre
  6. 6
  7. 7

    Applications of plasma processes to VLSI technology

    Publié 1985
    Livre
  8. 8
  9. 9
  10. 10