نتائج البحث

  1. 1

    Parametric study of the reactive ion etching of silicon حسب Sotto, Romelyn H.

    منشور في 2008
    أطروحة
  2. 2

    Formation of nanopillars on 4H-SiC via self-masking CF4 plasma etching in a gas disharge ion source حسب Gines, Arnold Rey B.

    منشور في 2013
    أطروحة
  3. 3

    Reactive ion etching of GaAs structures using BCl3 حسب Mailig, Rengie Mark D.

    منشور في 2012
    أطروحة
  4. 4
  5. 5

    Principles of plasma discharges and materials processing حسب Lieberman, M. A. ( Michael A.)

    منشور في 1994
    كتاب
  6. 6
  7. 7

    Applications of plasma processes to VLSI technology

    منشور في 1985
    كتاب
  8. 8
  9. 9
  10. 10