खोज परिणाम

  1. 1

    Parametric study of the reactive ion etching of silicon द्वारा Sotto, Romelyn H.

    प्रकाशित 2008
    थीसिस
  2. 2

    Formation of nanopillars on 4H-SiC via self-masking CF4 plasma etching in a gas disharge ion source द्वारा Gines, Arnold Rey B.

    प्रकाशित 2013
    थीसिस
  3. 3

    Reactive ion etching of GaAs structures using BCl3 द्वारा Mailig, Rengie Mark D.

    प्रकाशित 2012
    थीसिस
  4. 4
  5. 5

    Principles of plasma discharges and materials processing द्वारा Lieberman, M. A. ( Michael A.)

    प्रकाशित 1994
    पुस्तक
  6. 6
  7. 7

    Applications of plasma processes to VLSI technology

    प्रकाशित 1985
    पुस्तक
  8. 8
  9. 9
  10. 10