Chemical vapor deposition thermal and plasma deposition of electronic materials

Библиографические подробности
Главный автор:	Sivaram, S.
Формат:	‌
Язык:	English
Опубликовано:	New York Van Nostrand Reinhold c1995.
Предметы:	Microelectronics industry. Chemical vapor deposition. Microelectronics > Materials.