توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Ho, P. S., Leu, J., & Lee, W. W. (2003). Low dielectric constant materials for IC applications. Springer.

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Ho, P. S., J. Leu, و Wei William Lee. Low Dielectric Constant Materials for IC Applications. Berlin: Springer, 2003.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)

Ho, P. S., et al. Low Dielectric Constant Materials for IC Applications. Springer, 2003.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.