IC mask design essential layout techniques

IC mask design essential layout techniques

Zobrazit všechna vydaní (2)
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Saint, Christopher 1961-
Další autoři: Saint, Judy
Médium: Kniha
Jazyk:English
Vydáno: New York McGraw-Hill c2002.
Témata:
Integrated circuit layout.
Integrated circuits > Masks > Design and construction.