Silicon nitride (SiNxHy) by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Bibliografski detalji
Izdano u:Science Diliman Vol. 13, no. 2 (Jul. 2001 - Dec. 2001), 26-28
Glavni autor: Manay, R.L
Daljnji autori: Abellana, V.Y, Sarmago, Roland V.
Format: Članak
Jezik:English
Izdano: 2001
Teme: