Zobrazuji výsledky 1 - 1 z 1 pro vyhledávání 'Tercero, Jomar U.', doba hledání: 0,01 s. Upřesnit hledání
  1. 1

    Etch-stop mechanisms in plasma-assisted atomic layer etching of silicon nitride: a molecular dynamics study Autor Tercero, Jomar U.

    Vydáno 2021
    Abstract
    Diplomová práce

    Etch-stop mechanisms in plasma-assisted atomic layer etching of silicon nitride: a molecular dynamics study

Vyhledávací nástroje: